Tính năng & Thông số kỹ thuật:

• Kích thước wafer hỗ trợ: lên đến 300 mm, bao gồm wafer trần hoặc phủ lớp điện môi

• Xử lý wafer: thủ công hoặc sử dụng bộ nạp cassette (indexer) do Semilab cung cấp

Tùy chọn nạp mẫu:

• Bộ nạp cassette 100–200 mm

• Bộ nạp cassette 13 khe cho wafer 300 mm, hỗ trợ cả cassette mở (open cassettes) cho 100–300 mm

• Bộ nạp cassette 25 khe cho 300 mm, bao gồm FOUP, FOSB và cassette mở

Mục tiêu đo & ứng dụng:

• Phát hiện tạp chất kim loại nặng và kim loại chuyển tiếp

• Phát hiện khuyết tật tinh thể

• Tùy chọn mở rộng: đo nồng độ sắt (Fe) trong wafer CZ và FZ

• Không giới hạn độ dày wafer

• Tốc độ đo nhanh, độ phân giải không gian cao

• Yêu cầu lớp passivation: oxide nhiệt, xử lý hóa học hoặc nạp điện (corona charging)

Khả năng mở rộng:

• Thiết bị có thể được cấu hình linh hoạt theo yêu cầu người dùng, bao gồm các tính năng đo bổ sung và tự động hóa